(1)
Odzaev, V. B.; Plebanovich, V. I.; Tarasik, M. I.; Chelyadinskii, A. R. About the Influence of Elastic Stresses on the Implanted Boron Diffusion in Silicon. Журнал Белорусского государственного университета. Физика 2017, No. 3, 88-94.