Электропроводность пленок силицида платины, сформированных с применением быстрой термообработки
Аннотация
Приведены результаты исследования изменения удельного сопротивления системы Pt – Si при формировании силицида платины методом его диффузионного синтеза с применением быстрой термообработки и изменением температуры в широких пределах (200 –550 °С). Пленки платины толщиной 35 нм наносились на подложку монокристаллического кремния путем магнетронного распыления мишени из платины с криогенной откачкой до давления P ≤ 5 × 10–5 Па в атмосфере чистого аргона. Быстрая термическая обработка проводилась с помощью об-лучения нерабочей стороны пластины некогерентным световым потоком в атмосфере азота. Установлено, что при температуре от 200 до 300 °С происходит рост удельного сопротивления пленки за счет образования фазы Pt2Si. Повышение температуры обработки до 350 °С приводит к уменьшению удельного сопротивления, что обуслов-лено образованием при такой температуре пленки, состоящей из двух фаз силицида платины Pt2Si и PtSi, а при 450 °С наблюдается увеличение удельного сопротивления, что соответствует удельному сопротивлению пленки с содержанием лишь одной фазы силицида платины PtSi. Дальнейшее повышение температуры до 550 °C не влияет на величину удельного сопротивления, что свидетельствует о завершении формирования моносилицида платины при температуре 450 °С. Показано, что изменение удельного сопротивления пленки платины на кремнии при обработке от 200 до 400 °С обусловлено действием d-электронов металла при формировании высокоомной фазы Pt2Si (ρ = 35,2мкОм×см), авслучае образования при температуре свыше 450°С– действием низкоомной фазы PtSi (ρ = 28,0 мкОм × см) как d-электронов металла, так и s- и р-электронов кремния.
Литература
- Mewrarka ShP. Silitsidy dlya SBIS [Silicides for VLSIs]. Baranov VV, translator; Chistyakov YuD, editor. Мoscow: Mir; 1986. 176 p. Russian.
- Komarov FF, Mil’chanin OV, Kovaleva TB, Solodukha VA, Solov’ev YaA, Turtsevich AS. [Low temperature method of the platinum silicide contact layer formation for power diodes Shottky]. Doklady of the National Academy of Sciences of Belarus. 2013;57(2):38– 42. Russian.
- Batavin VV, KontsevoiYuA, FedorovichYuV. Izmerenie parametrov poluprovodnikovykh materialov [Parameter measurements of semiconductor materials]. Moscow: Radio i svyaz’; 1985. Russian.
Copyright (c) 2019 Журнал Белорусского государственного университета. Физика

Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution-NonCommercial» («Атрибуция — Некоммерческое использование») 4.0 Всемирная.
Авторы, публикующиеся в данном журнале, соглашаются со следующим:
- Авторы сохраняют за собой авторские права на работу и предоставляют журналу право первой публикации работы на условиях лицензии Creative Commons Attribution-NonCommercial. 4.0 International (CC BY-NC 4.0).
- Авторы сохраняют право заключать отдельные контрактные договоренности, касающиеся неэксклюзивного распространения версии работы в опубликованном здесь виде (например, размещение ее в институтском хранилище, публикацию в книге) со ссылкой на ее оригинальную публикацию в этом журнале.
- Авторы имеют право размещать их работу в интернете (например, в институтском хранилище или на персональном сайте) до и во время процесса рассмотрения ее данным журналом, так как это может привести к продуктивному обсуждению и большему количеству ссылок на данную работу. (См. The Effect of Open Access).