Электропроводность пленок силицида платины, сформированных с применением быстрой термообработки

Авторы

  • Виктор Михайлович Анищик Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь
  • Валентина Алексеевна Горушко Государственный центр «Белмикроанализ» филиала НТЦ «Белмикросистемы» ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь
  • Владимир Александрович Пилипенко Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь
  • Владимир Васильевич Понарядов Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь
  • Виталий Александрович Солодуха ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь

Ключевые слова:

быстрая термическая обработка, силицид платины, удельное сопротивление, твердофазный синтез

Аннотация

Приведены результаты исследования изменения удельного сопротивления системы Pt – Si при формировании силицида платины методом его диффузионного синтеза с применением быстрой термообработки и изменением температуры в широких пределах (200 –550 °С). Пленки платины толщиной 35 нм наносились на подложку монокристаллического кремния путем магнетронного распыления мишени из платины с криогенной откачкой до давления P ≤ 5 × 10–5 Па в атмосфере чистого аргона. Быстрая термическая обработка проводилась с помощью об-лучения нерабочей стороны пластины некогерентным световым потоком в атмосфере азота. Установлено, что при температуре от 200 до 300 °С происходит рост удельного сопротивления пленки за счет образования фазы Pt2Si. Повышение температуры обработки до 350 °С приводит к уменьшению удельного сопротивления, что обуслов-лено образованием при такой температуре пленки, состоящей из двух фаз силицида платины Pt2Si и PtSi, а при 450 °С наблюдается увеличение удельного сопротивления, что соответствует удельному сопротивлению пленки с содержанием лишь одной фазы силицида платины PtSi. Дальнейшее повышение температуры до 550 °C не влияет на величину удельного сопротивления, что свидетельствует о завершении формирования моносилицида платины при температуре 450 °С. Показано, что изменение удельного сопротивления пленки платины на кремнии при обработке от 200 до 400 °С обусловлено действием d-электронов металла при формировании высокоомной фазы Pt2Si (ρ = 35,2мкОм×см), авслучае образования при температуре свыше 450°С– действием низкоомной фазы PtSi (ρ = 28,0 мкОм × см) как d-электронов металла, так и s- и р-электронов кремния.

Биографии авторов

  • Виктор Михайлович Анищик, Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь

    доктор физико-математических наук, профессор; декан физического факультета

  • Валентина Алексеевна Горушко, Государственный центр «Белмикроанализ» филиала НТЦ «Белмикросистемы» ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь

    ведущий инженер

  • Владимир Александрович Пилипенко, Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь

    член-корреспондент НАН Беларуси, доктор технических наук; профессор кафедры физики полупроводников и наноэлектроники физического факультета

  • Владимир Васильевич Понарядов, Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь

    кандидат физико-математических наук, доцент; заместитель декана физического факультета

  • Виталий Александрович Солодуха, ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь

    кандидат технических наук; генеральный директор

Библиографические ссылки

  1. Mewrarka ShP. Silitsidy dlya SBIS [Silicides for VLSIs]. Baranov VV, translator; Chistyakov YuD, editor. Мoscow: Mir; 1986. 176 p. Russian.
  2. Komarov FF, Mil’chanin OV, Kovaleva TB, Solodukha VA, Solov’ev YaA, Turtsevich AS. [Low temperature method of the platinum silicide contact layer formation for power diodes Shottky]. Doklady of the National Academy of Sciences of Belarus. 2013;57(2):38– 42. Russian.
  3. Batavin VV, KontsevoiYuA, FedorovichYuV. Izmerenie parametrov poluprovodnikovykh materialov [Parameter measurements of semiconductor materials]. Moscow: Radio i svyaz’; 1985. Russian.

Загрузки

Дополнительные файлы

Опубликован

2019-02-10

Выпуск

Раздел

Физика конденсированного состояния

Как цитировать

(1)
Анищик, В. М.; Горушко, В. А.; Пилипенко, В. А.; Понарядов, В. В.; Солодуха, В. А. Электропроводность пленок силицида платины, сформированных с применением быстрой термообработки. Журнал Белорусского государственного университета. Физика 2019, вып. 1, 27-31.