Применение быстрой термической обработки для отжига ионно-легированных слоев в поликремнии

  • Виктор Михайлович Анищик Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь
  • Валентина Алексеевна Горушко Государственный центр «Белмикроанализ» филиала НТЦ «Белмикросистемы» ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь
  • Владимир Александрович Пилипенко Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь
  • Владимир Васильевич Понарядов Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь
  • Виталий Александрович Солодуха ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь

Аннотация

Рассмотрена возможность использования быстрой термической обработки для формирования ионно-легированных слоев в поликремнии. Показано, что применение быстрой термической обработки позволяет уменьшить перераспределение внедренной примеси, получить более полную ее электрическую активацию. Объяснен ускоренный процесс диффузии внедренной в поликремний примеси при использовании мощного светового потока.

Биографии авторов

Виктор Михайлович Анищик, Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь

доктор физико-математических наук, профессор; декан физического факультета

Валентина Алексеевна Горушко, Государственный центр «Белмикроанализ» филиала НТЦ «Белмикросистемы» ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь

ведущий инженер

Владимир Александрович Пилипенко, Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь

член-корреспондент НАН Беларуси, доктор технических наук; профессор кафедры физики полупроводников и наноэлектроники физического факультета

Владимир Васильевич Понарядов, Белорусский государственный университет, пр. Независимости, 4, 220030, г. Минск, Беларусь

кандидат физико-математических наук, доцент; заместитель декана физического факультета

Виталий Александрович Солодуха, ОАО «Интеграл», ул. Казинца, 121А, 220108, г. Минск, Беларусь

кандидат технических наук; генеральный директор

Литература

  1. Turtsevich A. S., Anufriev L. P. [Polycrystalline Silicon Films in the Production Technology of Integrated Circuits and Semiconductor Devices]. Minsk, 2006.
  2. Vogler D., Doe P. ALD Special Report: Whereʼs the metal? Solid State Technol. 2003. No. 1. P. 35–40.
Опубликован
2017-05-30
Ключевые слова: быстрая термическая обработка, поликремний, ионно-легированный слой, поверхностное сопротивление
Как цитировать
Анищик, В. М., Горушко, В. А., Пилипенко, В. А., Понарядов, В. В., & Солодуха, В. А. (2017). Применение быстрой термической обработки для отжига ионно-легированных слоев в поликремнии. Журнал Белорусского государственного университета. Физика, 2, 63-68. Доступно по https://journals.bsu.by/index.php/physics/article/view/441
Выпуск
№ 2 (2017): Журнал Белорусского государственного университета. Физика
Раздел
Физика и техника полупроводников

Copyright (c) 2017 Журнал Белорусского государственного университета. Физика

Лицензия Creative Commons

Это произведение доступно по лицензии Creative Commons «Attribution-NonCommercial» («Атрибуция — Некоммерческое использование») 4.0 Всемирная.

Авторы, публикующиеся в данном журнале, соглашаются со следующим:

  1. Авторы сохраняют за собой авторские права на работу и предоставляют журналу право первой публикации работы на условиях лицензии Creative Commons Attribution-NonCommercial. 4.0 International (CC BY-NC 4.0).
  2. Авторы сохраняют право заключать отдельные контрактные договоренности, касающиеся неэксклюзивного распространения версии работы в опубликованном здесь виде (например, размещение ее в институтском хранилище, публикацию в книге) со ссылкой на ее оригинальную публикацию в этом журнале.
  3. Авторы имеют право размещать их работу в интернете (например, в институтском хранилище или на персональном сайте) до и во время процесса рассмотрения ее данным журналом, так как это может привести к продуктивному обсуждению и большему количеству ссылок на данную работу. (См. The Effect of Open Access).